Aus welchem ​​Material bestehen Silizium-Wafer?

Siliziumwafer bestehen aus einkristallinem Silizium. Monokristallines Silizium ist ein hochreines Siliziummaterial mit der Integrität und Konsistenz der Kristallstruktur. Es ist eines der am häufigsten verwendeten Substratmaterialien in der Halbleiterindustrie zur Herstellung integrierter Schaltkreise (ICs) und anderer Halbleiterbauelemente.

Einkristallines Silizium wird bei hohen Temperaturen durch Verfahren wie chemische Gasphasenabscheidung (CVD) oder die Einkristall-Silizium-Floating-Zone-Methode gezüchtet. Bei diesem Verfahren wächst das Siliziummaterial als Einkristall und bildet einen Siliziumblock. Der Siliziumblock wird geschnitten, nivelliert, poliert und anderen Prozessschritten unterzogen und schließlich zu einem flachen Siliziumwafer mit einer bestimmten Dicke verarbeitet.

Siliziumwafer haben hervorragende elektrische und mechanische Eigenschaften, eine gute Wärmeleitfähigkeit, eine hohe Beständigkeit gegen chemische Korrosion und gute optische Eigenschaften. Dies macht Siliziumwafer zu einem idealen Substratmaterial für die Herstellung von Halbleiterbauelementen und optoelektronischen Geräten. Die Größe von Siliziumwafern wird normalerweise anhand des Durchmessers angegeben. Gängige Durchmesser sind 2 Zoll (50,8 mm), 4 Zoll (101,6 mm), 6 Zoll (152,4 mm), 8 Zoll (203,2 mm) und 12 Zoll (304,8 mm).