Thermisch-Stabiles Siliziumkristall-Grundmaterial
Seine Anpassungsfähigkeit unterstützt sowohl herkömmliche Halbleiterplattformen als auch Halbleiterplattformen der nächsten{0}}Generation, reduziert Ausfälle durch thermische Belastung und verbessert die langfristige Zuverlässigkeit.
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Produkteinführung
Thermisch-Stabiles Siliziumkristall-Grundmaterial
Das thermisch{0}stabile Siliziumkristall-Grundmaterial bietet eine außergewöhnliche Beständigkeit gegen Wärmeverformung und ist ideal für längere Verarbeitungsbedingungen bei hohen Temperaturen wie Epitaxie, Diffusion und Oxidation. Seine Anpassungsfähigkeit unterstützt sowohl herkömmliche Halbleiterplattformen als auch Halbleiterplattformen der nächsten{3}}Generation, reduziert Ausfälle durch thermische Belastung und verbessert die langfristige Zuverlässigkeit.
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