Siliziumwafer mit Oxidschicht
Diese Siliziumwafer enthalten eine sorgfältig kontrollierte Oxidschicht, die für die fortschrittliche Oberflächentechnik und die Entwicklung von Dünnschichtanwendungen geeignet ist.
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Produkteinführung
Siliziumwafer mit Oxidschicht
Diese Siliziumwafer enthalten eine sorgfältig kontrollierte Oxidschicht, die für die fortschrittliche Oberflächentechnik und die Entwicklung von Dünnschichtanwendungen geeignet ist. Die mit Oxid-beschichtete Oberfläche bietet eine gleichmäßige Schichtdicke und hohe optische Klarheit und gewährleistet die Kompatibilität mit Metallisierung, Ätzung, AR-Beschichtungen und der Montage von Hybridgeräten. Kunden können die Oxiddicke und die Waferqualität (Prime, Test, geringe Defekte) auswählen, um Kosten- und Leistungsoptimierungsziele zu erreichen.
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